[기계신문] 한국전자기술연구원(KETI)은 5일 ㈜그래핀랩과 ‘그래핀 기반 차세대 EUV 펠리클 핵심공정 기술 개발을 위한 업무협약’을 체결했다.
참고로, 흑연은 탄소 원자들이 육각형 벌집 모양의 그물처럼 배열된 평면의 층이 쌓여 있는 구조인데, 이 흑연의 한 층을 그래핀(Graphene)이라 일컬는다.
EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 공정은 극자외선 파장의 광원을 활용한 반도체 제조공정으로, 기판의 모양·크기에 상관없이 모든 면에 균일한 박막 형성이 가능해 차세대 반도체 핵심기술로 꼽힌다.
또, 펠리클(Pellicle)은 EUV 노광 공정용 투과 소재로 구성된, 회로가 새겨진 포토 마스크 표면을 외부 오염으로부터 보호해주는 반도체 공정용 소모성 부품이다.
KETI는 2020년 5월 과학기술정보통신부의 지원으로 출범한 국가핵심소재연구단 ‘EUV 마스크/펠리클 소재연구단’의 총괄 연구기관으로, 2세대 EUV 펠리클 원천소재 확보를 통해 국내 소재·부품·장비 기업으로의 기술 확산 및 대일 의존도가 높은 소재·부품의 국산화를 추진 중이다.
㈜그래핀랩은 양산급 제조 인프라를 기반으로 그래핀(CVD(Chemical Vapor Deposition, 화학기상증착법) 그래핀, 그래핀 Flake)을 생산·공급하는 기업으로, 주요 대학과 연구소에서 필요로 하는 연구 개발용 그래핀 소재를 생산 중이며, 지난해 소재·부품·장비 전문기업확인서를 취득한 바 있다.
양 기관은 이번 양해각서를 통해 ▲EUV 펠리클 핵심공정 기술 분야 공동 사업 발굴·기획 및 공동 연구 협력 ▲산·연 EUV 펠리클 공동 연구실 개소 및 2세대 펠리클 제조기술 협력 ▲EUV 펠리클 제조 핵심공정 기술 분야 인력 교류 등을 공동 추진하기로 했다.
공동 연구실의 경우 양 기관이 보유하고 있는 ALD(원자층증착), CVD(화학기상증착) 장비 및 분석 설비 등의 공동 활용으로 2세대 EUV 펠리클 제조기술 개발 및 신규 응용분야 탐색 등 협력을 강화할 예정이다.
향후 양 기관은 그래핀 기반의 2세대 펠리클 세계 최초 구현을 목표로 기술·인력·인프라 분야 협력을 강화하여, 국내 초미세 반도체 소자 양산공정의 수율을 크게 향상시키는데 기여할 것으로 기대하고 있다.
KETI 장영진 원장은 “KETI가 보유한 EUV 펠리클 관련 핵심기술과 그래핀랩의 그래핀 소재 및 장비 양산화 경험이 더해진다면 차세대 반도체 소재·부품뿐만 아니라 다양한 고부가가치 소재 및 응용 분야에서도 우수한 산연 협력 성공사례를 창출할 수 있을 것으로 기대한다”고 밝혔다.
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