[기계신문] 한국화학연구원은 ‘화학소재 평가 및 실증화 연구시설’이 소재·부품·장비(이하 소부장) 핵심 인프라 역할을 인정받아 지난 7월 6일 소부장 우수 국가연구시설(N-Facility)로 선정, 과학기술정보통신부 장관상을 수상했다고 밝혔다.
화학연구원 ‘화학소재 평가 및 실증화 연구시설’은 화학소재 장기신뢰성 평가, 고장분석 및 롤투롤(Roll-to-Roll) 코팅 실증 관련 인프라 및 기술을 보유하고 있어 2020년 7월 국가연구시설(N-Facility)에 지정됐다. 최근 3년간 780개 기업에 17,700건의 기술지원을 수행했으며, 극저온 단열재 접착제 등 소재 국산화에 기여한 공로로 장관상을 수상했다.
국가연구시설(N-Facility)은 소재·부품·장비 핵심기술 자립역량 강화를 위한 국가연구인프라(3N) 중 하나로, 연구개발 상용화 단계에서 국가 핵심품목 연구개발 지원 및 테스트베드 제공을 통해 선도적 역할 수행하는 연구시설이다.
이번 장관표창은 국내 11개의 N-Facility 기관 중 우수한 지원 성과를 창출한 연구시설에 수여되었다. 3N에는 국가연구시설 외에도 국가연구실(N-Lab), 국가연구시설(N-Facility), 국가연구협의체(N-TEAM)이 있으며, 현재 한국화학연구원은 N-Lab 3개, N-Facility 1개, N-TEAM 1개를 운영하고 있다.
‘화학소재 평가 및 실증화 연구시설’은 화학연구원 화학소재솔루션센터와 신뢰성평가센터가 공동으로 운영하고 있으며 총 30여명의 연구인력이 근무하고 있다.
연구시설은 기능성 코팅·필름 기술을 개발하고 있으며 필름 개발에 필요한 코팅 인프라로 파일럿 롤투롤 코터 6종 및 운영 공간 클린룸(1,000㎡), 준클린룸(230㎡)을 보유하고 있다.
또한 화학소재 연구개발에 필수적인 소재 물성의 장기 신뢰성 평가, 고장분석 인프라 등을 바탕으로 국내 기업의 공정기술지원 및 평가, 인증을 지원하고 있다.
이를 통해 매년 200개 이상의 기업을 대상으로 5,000건 이상의 평가 및 실증지원을 수행하고 있으며 산업계의 신제품 개발과 국산화 촉진에 기여하고 있다.
특히 에너지 수송기기에 쓰이는 극저온 단열재 접착제 개발 지원, 유연 디스플레이에 쓰이는 표면 코팅 소재 개발 지원으로 차세대 핵심 소재 국산화에 기여하였다.
연구시설은 인프라 제공뿐만 아니라, N-Facility 내 장비를 활용한 연구개발로 롤투롤 코팅 및 패터닝 공정과 물성시험장치 분야에서 자체 기술력을 확보하고 있다.
최우진 화학소재솔루션센터장은 “국가연구시설을 활용하여 기업에 대한 직접적인 지원뿐만 아니라 자체 기술력 및 전문성을 지속적으로 강화해 소재·부품 분야의 자립 및 발전에 기여하도록 노력하겠다”고 말했다.
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